1)電弧熔煉室：立式圓筒型真空室。

2)冷態(tài)極限真空度：≤6.7x10-4 Pa.

3)熔煉電流：額定電流1000 A.

4)設(shè)備加熱溫度：3500~4000℃.

5）熔煉堝有五個(gè)工位，三個(gè)熔煉合金工位（一個(gè)帶電磁攪拌），一個(gè)熔煉除氣工位，一個(gè)吸鑄工位。

6)熔煉樣品重量（以鐵標(biāo)定）：1x500克，1x200克，1x100克。

7)熔煉除氣工位（以鐵標(biāo)定）：1X80克。

8)吸鑄工位（以鐵標(biāo)定）：1x80克

9)電弧熔煉陰極裝置：引弧方式為高頻和接觸式引弧。

大功率非自耗真空電弧爐熔煉爐

10)電弧熔煉真空室采用雙層水冷結(jié)構(gòu)，內(nèi)外層為不銹鋼組焊接而成，并做表面啞光處理，內(nèi)壁拋光處理。爐體上設(shè)有翻轉(zhuǎn)機(jī)械手，用于樣品的熔煉翻轉(zhuǎn)。設(shè)有觀察窗，真空接口，充放氣閥等，爐蓋上設(shè)有上電極接口，結(jié)構(gòu)新穎外形美觀大方。

11)上電極及升降裝置，采用窩型萬(wàn)向設(shè)計(jì)，可360度自由旋轉(zhuǎn)，電極升降采用絲桿升降，電動(dòng)調(diào)節(jié)的方式，調(diào)節(jié)便攜靈活。

12)爐門開啟采用手動(dòng)打開，操作方便，裝卸料簡(jiǎn)單。

13)五工位水冷銅坩堝：水冷銅坩堝采用紫銅加工而成，設(shè)有4個(gè)工位，三個(gè)熔煉合金工位，一個(gè)熔煉除氣工位，一個(gè)吸鑄工位。銅坩堝帶水冷。

14)真空系統(tǒng)：真空系統(tǒng)采用浙直聯(lián)泵＋分子泵＋三臺(tái)氣動(dòng)真空閥和各種管路的方式，保證真空度優(yōu)于6.7x10-4Pa,真空度的測(cè)量采用復(fù)合真空計(jì)來(lái)完成，操作無(wú)聲，無(wú)雜音。

15)設(shè)備可在多種氣氛條件下制樣：空氣狀態(tài)下、保護(hù)氣氛條件下和負(fù)壓條件下制樣；并可制備500 g工件，并能實(shí)現(xiàn)快速冷卻。

16)電源控制系統(tǒng)：控制系統(tǒng)與爐體采用一體化設(shè)計(jì)，并安裝有模擬屏，操作按鈕按照功能用途集中模塊化布局，并配有模擬圖形，識(shí)別度高，方便操作。電弧電源采用電弧熔煉電源，安全系數(shù)高，穩(wěn)定性強(qiáng)。電路設(shè)有斷水報(bào)警及保護(hù)功能。

17）等離子加熱系統(tǒng)，設(shè)備總功率100KW;能連續(xù)24H工作，自動(dòng)加熱，自動(dòng)升降，自動(dòng)鑄造成樣品。

18）)虛擬分析軟件,用于采集數(shù)據(jù)與優(yōu)化數(shù)據(jù)。